瘋狂囤光刻機，DRAM雙雄在怕什麼？
DRAM 市場龍頭瘋狂囤積光刻機，背後隱藏儲存產業焦慮。此舉反映對供應鏈或市場的擔憂。恐導致晶片製造供應中斷。
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ASML：光刻機之王如何煉成？
ASML源自飛利浦NatLab的步進式光刻技術，1984年與ASM合併成立公司並獲關鍵支持。對蔡司等夥伴的外包策略及贏得AMD與台積電等早期客戶推動成長，儘管飛利浦短視。大量DUV與EUV研發投資確保90%市占率主宰地位。
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消息稱阿斯麥 ASML 新一代 EUV 光刻機已具備量產條件，單台成本約 4 億美元
阿斯麥 High-NA EUV 光刻機具備量產條件，單台售價約 4 億美元。此機簡化先進 AI 晶片製造流程，如驅動 ChatGPT 的晶片。儘管稼動率達 80% 並加工 50 萬片晶圓，晶片廠仍需 2-3 年整合。
ASML 計劃將 EUV 光源功率提至 1000W，2030 年每小時晶圓產量可提升 50%
ASML 首席技術專家 Michael Purvis 透露，研究人員已開發出穩定系統，將 EUV 光源功率從 600W 提升至 1000W，用於實際生產環境。此進展滿足嚴苛要求。到 2030 年，每小時晶圓產量可提升 50%。
中國微影、共封裝光學與 Samsung 新記憶體技術
Tom's Hardware Premium 8 月 7 日的內容涵蓋中國自主晶片製造、共封裝光學，以及 Samsung 最新的記憶體公告。同時，文章介紹重新設計的 Bench 工具，並提供 Samsung 最新技術更新的免費技術解析。
蘇聯造晶片：特工、逆向工程、最終失敗
俄羅斯將 350 奈米光刻機納入國家工業體系，由 ZNTC 與 Planar 聯合研發，可生產 90 奈米晶片。此技術源自 30 年前蘇聯遺產。文章詳述蘇聯透過特工、逆向工程與舉國之力造晶片，探討其最終敗在何處。
尼康面臨850億日圓巨虧，光刻業務潰敗
尼康發布2025財年慘淡業績預告，預計出現850億日元巨額虧損，為公司百年歷史最差紀錄。光刻機業務陷入絕境，過去半年僅出貨9台技術陳舊的成熟製程老款，毫無高端競爭力。
昔日光刻霸主尼康正陷入空前生存危機
日本光學巨頭尼康發布史上最慘烈的虧損預警——預計2025財年出現850億日元巨額虧損，創1917年創立以來百年最差紀錄。其核心光刻機業務遭遇全線潰敗，讓昔日光刻霸主陷入空前生存危機。