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ASML 2026年Q2營收達93億歐元，調高全年指引
💡ASML 的表現是 AI 硬體供應鏈與晶片產能的最重要指標。
⚡ 30-Second TL;DR
有什麼變化
第二季營收達 93 億歐元
為什麼重要
ASML 的增長直接反映了 AI 導向的半導體製造產能正投入龐大的資本支出。
下一步行動
追蹤 ASML 的設備交付進度，以預判高階 AI GPU 生產的供應鏈瓶頸。
誰應關注：Enterprise & Security Teams
關鍵要點
- •第二季營收達 93 億歐元
- •調高 2026 全年營收預期至 430-450 億歐元
- •毛利率預期調高至 54-56%
🧠 深度解析
AI-generated analysis for this event.
🔑 增強重點摘要
- •ASML 2026年第二季的強勁表現主要受惠於高數值孔徑（High-NA）EUV 微影設備的出貨量增加，該設備已成為先進製程晶圓廠的標配。
- •公司指出，儘管地緣政治限制持續存在，但來自 AI 晶片與高效能運算（HPC）領域的邏輯晶片需求，抵銷了部分成熟製程市場的疲軟。
- •ASML 宣布將擴大在歐洲與亞洲的供應鏈投資，以應對 2027 年預期將進一步成長的產能需求。
- •財報顯示，ASML 的積壓訂單（Backlog）金額已達到歷史新高，確保了未來 18 個月的營收能見度。
- •公司管理層在財報會議中確認，針對特定市場的出口管制措施對其 2026 年整體營收影響有限，且已在預期範圍內。
📊 競品分析▸ Show
| 競爭對手 | 核心技術優勢 | 市場定位 | 關鍵挑戰 |
|---|---|---|---|
| Canon | 奈米壓印微影 (NIL) | 低成本、低功耗製程 | 解析度與良率難以挑戰 EUV |
| Nikon | ArF 浸潤式微影 | 成熟製程與特殊應用 | 缺乏 EUV 技術，無法進入先進製程 |
🛠️ 技術深入
- High-NA EUV (EXE:5200/5000): 數值孔徑提升至 0.55，解析度較傳統 EUV 提升 1.7 倍，支援 2nm 以下製程節點。
- 模組化設計: 透過模組化架構提升設備安裝與維護效率，縮短客戶產線停機時間。
- 軟體優化: 導入 AI 驅動的計算微影技術（Computational Lithography），顯著提升圖案化精確度與良率。
🔮 前景展望AI analysis grounded in cited sources
ASML 將在 2027 年維持全球微影設備市場超過 80% 的市佔率。
由於 High-NA EUV 設備的技術門檻極高且競爭對手難以在短期內突破，ASML 在先進製程領域的壟斷地位將持續穩固。
2026 年下半年毛利率將因產品組合優化而進一步提升。
隨著高單價的 High-NA EUV 設備出貨佔比增加，產品組合的利潤結構將有利於毛利率的持續擴張。
⏳ 時間線
2023-12
ASML 向 Intel 交付首台 High-NA EUV 微影設備
2024-04
ASML 公布 2024 年第一季財報，營收與訂單量低於市場預期
2025-01
ASML 宣布完成新一代 EUV 設備的產能擴充計畫
2026-01
ASML 啟動 2026 年度策略轉型，聚焦 AI 晶片製造需求
2026-04
ASML 第一季營收表現回穩，市場需求開始顯著回升
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